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什么是光刻技术-《光刻》



光刻技术是什么
光刻机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem。是指在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制...

什么是光刻技术?
光刻技术就是在需要刻蚀的表面涂抹光刻胶,干燥后把图形底片覆盖其上,有光源照射,受光部分即可用药水洗掉胶膜,没有胶膜的部分即可用浓酸浓碱腐蚀表面。腐蚀好以后再洗掉其余的光刻胶。现在为了得到细微的光刻线条使用紫外...

什么是光刻技术?
回购光刻机指的是中国芯片企业要求ASML回购已经购买的700台光刻机。光刻机,又名掩模对准曝光机、曝光系统等,是制造芯片的核心装备。光刻机采用类似照片冲印的技术,能够把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。A...

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《光刻-百度百科》光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。《光刻流程》《准分子光刻技术》《极紫外光刻技术》《更多 >》

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