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激光直写与光刻区别-《光刻》



激光直写,激光加工,光刻技术有什么区别
包括光化学沉积、立体光刻、激光刻蚀等。由于激光具有高亮度、高方向性、高单色性和高相干性四大特性,因此就给激光加工带来一些其它加工方法所不具备的特性。由于它是无接触加工,对工件无直接冲击,因此无机械变形;激光加工...

直写式光刻机和Eva光刻机的区别?
一般来讲,光刻机可粗略分成掩膜式(步进式Stepper和扫描式Scanner)和直写式无掩膜光刻机两种。直写式光刻机目前被用于半导体IC、生物芯片、光电芯片及其他小规模生产及科研;对于32纳米或以下技术,EUV光掩膜过于昂贵,直写...

什么是微光刻,跟激光光刻有什么区别?
刻只是光刻的一种说法。一般来说,英文对光刻技术的叫法有photolithography,microlithography等等,但是意思上没有本质区别。lithography的英文愿意是印刷,加上photo或者micro目的是区别光刻和传统印刷技术。采用激光进行光刻...

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《光刻-百度百科》光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。《光刻流程》《准分子光刻技术》《极紫外光刻技术》《更多 >》

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